技術教育出版(有)
 

 

セミナー情報


 


基礎から最新技術までを学べると好評の技術教育出版のZOOMによる

オンラインセミナーのご案内

―「スキンケア化粧品の新しい視点からの研究開発と最新技術―


 
 
開催日: 2026年5月28日(木)13時〜16時50分(入室12時45分)
参加費: 19,000円(税込)
予稿集: 開催日が近くなりましたら、冊子をご郵送いたします。

ZOOM:

URLは開催日が近くなりましたらメールいたします。
申込先: 技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106 Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549


 

◆開会にあたって

本セミナーでは、スキンケア化粧品研究開発の分野におけるデータサイエンスによる商品化について解説し、スキンケア化粧品の注目技術(毛穴ケア、次世代美白アプローチ)を詳述し、さらにはサンスクリーン処方を容易にする新処方技術、テーラーメイド化粧品開発のための皮膚再現技術を解説し、スキンケア化粧品の最新動向を明らかにするものです。

 
 
◆プログラム(講演概要)
時間 演題

1 13時〜13時50分

「データサイエンスが広げるスキンケア化粧品研究開発の可能性」 

潟Rーセー 笹木亮氏

 


近年、化粧品の研究開発においてもデータの活用がますます重要になっています。研究の効率化や品質向上を目指し、従来の試行錯誤型アプローチに加えて、予測に基づく開発への転換が進んでいます。本講演では、量子コンピュータを用いた処方設計、防腐力を予測するモデルの構築、肌機能データに基づく肌リスクの予測などの具体例を交えながら、自社におけるスキンケア製品開発とデータサイエンスとの関わりについて紹介します。



2 13時55分〜14時35分

「真なる毛穴ケア技術‐角栓を効果的かつ優しく除去するスキンケアアプローチ」 

花王梶@生垣信一氏

 


毛穴の目立ちの主要な原因の一つである角栓は、物理的にも化学的にも除去が困難な存在であることが知られています。我々は、タンパク質と脂質から構成される角栓について詳細解析を行うことで、角栓を自発的に崩壊させる技術としてトリスヒドロキシメチルアミノメタン(トリス)を見出しました。
本講演では、この技術開発の経緯や技術を応用した洗顔料の有用性について紹介します。

 



3 14時40分〜15時20分

「ケラチノサイトの細胞老化に着目した次世代美白アプローチ」  

潟iリス化粧品 山崎浩子氏

 


シミは皮膚内におけるメラニンの過剰蓄積を特徴とすることから、その改善は主としてメラノサイトにおけるメラニン産生制御に焦点が当てられてきました。一方、加齢に伴い出現する老人性色素斑では、近年、ケラチノサイトの分化・増殖異常の関与が示唆されています。本講演では、ケラチノサイトの「細胞老化」に着目し、細胞老化のシミ形成への関与を考察するとともに、老化制御に基づく新たなシミ改善アプローチを紹介します。

 

 

4 15時25分〜16時05分

「サンスクリーン処方を容易にする新処方技術」 

叶ャ和化成 平井綾音氏

 


サンスクリーンには紫外線防御剤として紫外線散乱剤もしくは紫外線吸収剤が配合されます。それぞれ配合する際に制限や課題があり、高い紫外線防御機能を有し、かつ安定で使用感の良いサンスクリーンを実現するためには高度な処方技術が求められます。本講演では、その処方性の難しさを緩和し、さらに配合時の制限を減らすことで処方の幅を広げる可能性を持つ紫外線吸収剤カプセル化原料について紹介します。

 

 

 

5 16時10分〜16時50分

「テーラーメイド化粧品開発のための皮膚再現技術」 

ポーラ化成工業梶@高橋萌奈氏

 


一人ひとりに最適な化粧品を届けるには、その人の肌の特徴を再現した皮膚をつくり、そこで成分の効果や安全性を確かめるのが近道です。私たちは尿由来のiPS細胞から、個人の遺伝情報をもつ皮膚モデル「ミラースキン」を作製しました。ミラースキンは、ドナー(尿提供者)の紫外線(UV)への応答性を反映しており、個人差を捉えられる皮膚モデルです。現在は、成分の有効性や安全性評価に適した構造への改良に成功しており、生体反応をより高い精度でできる皮膚の作製を目指しています。

 

 

 


 
 
 
◆申込要項
お申し込み用紙(PDF)
*お申し込み用紙に必須事項をご記入のうえ、FAXにてお申し込み下さい。
 
■お申し込み・お問い合わせ先
 
技術教育出版社 セミナー担当 行き
技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106
Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549
URL https://www.kbsweb.org/Gijyutukyouiku
 

「申し込み締切日:5月21日(木)ただし定員になり次第締め切り」  
「お振込みは、当社より、請求書が届いた後にお手続きをお願いいたします。お振込み手数料はご負担下さい。」
□本セミナーで使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画、写真撮影、複写、転載、配布、上映、販売及びそれに類する行為は禁止事項です。

◆締切日以降のキャンセルにより弊社に損害が発生しております。
予稿集の印刷所への発注とお客様への発送の関係上、5月14日(木)以降のキャンセルはかたくお断りいたします。





 
 
 
 
 


 


基礎から最新技術までを学べるZOOMによるオンラインセミナーのご案内

―「ヘアケア化粧品の新しい視点からの研究開発と最新技術」―


 
 
開催日: 2026年6月18日(木)13時〜16時55分(入室12時45分)
参加費: 19,000円(税込)
予稿集: 開催日が近くなりましたら、冊子をご郵送いたします。

ZOOM:

URLは開催日が近くなりましたらメールいたします。
申込先: 技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106 Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549


 

◆開会にあたって:

ヘアケア処方技術の総合解説とヘアケア化粧品最新技術(毛髪機能再生技術による新規ヘアカラー技術、毛髪のうねりを緩和する新規アミノ酸誘導体の開発、薄毛対策の二つの新規アプローチ、新規育毛アプローチ)について詳述する。

 
 
◆プログラム(講演概要)
時間 演題

1 13時〜14時

「ヘアケア処方技術の変遷・トレンドと今後の展望」

神戸大学 辻野義雄先生 

ヘアケア市場の高級品化は、新型コロナウイルス禍を機に加速し、高単価商品が全体を牽引しており、髪を若々しさの象徴と捉える意識の高まりを背景に急速に進んでいる。
このトレンドの背景には、消費者の意識変化や「時短・自宅ケア」いわゆる「おうち美容」の需要高まり、専門性の高い高機能製品の登場がある。リンスや合成界面活性剤の登場をヘアケア処方の第一世代と位置付け、バイオコンジュゲーション技術を用いた最新の持続型髪質改善技術の登場までを5つの世代に分けて、ヘアケア処方技術の変遷を説明し、今後の技術動向について述べる。




2 14時5分〜14時45分

「キノン架橋によって毛髪構造再生を実現する新しいタンパク架橋技術」

ミルボン 吉田正人氏

キノン架橋とはポリフェノールなどを利用してタンパク質同士を共有結合で架橋する反応である。本研究ではこの反応を利用してヘアカラーで低下する毛髪強度を回復し、毛髪機能を再生する技術開発を目指した。しかしヘアカラーに用いる過酸化水素存在下ではポリフェノールによる架橋形成が抑制されることが分かった。検討の結果、架橋が促進する条件を見出し、さらに毛髪に対しても施術前と同程度まで破断仕事量が回復する結果を得た。これにより、ダメージを気にせず楽しめるヘアカラー技術への可能性が示された。

 



3 14時50分〜15時30分

「毛髪のうねりを緩和する新規アミノ酸誘導体の開発」

川研ファインケミカル梶@山本義昭氏


毛髪のうねりは湿度などの環境要因によって顕著となり、多くの消費者が抱える代表的な毛髪悩みの一つである。本研究では、うねり抑制成分としてアルギニン(Arg)およびコハク酸(SA)に着目し、単独系および混合系における毛髪への吸着挙動とうねり抑制効果を評価した。その結果、Arg/SA混合系では拮抗効果が生じる一方、両者からなる化合物において高い吸着性とうねり抑制効果を示すことを明らかにした。これにより、毛髪のうねり抑制における成分組み合わせ設計の重要性が示唆された。

 

 

4 15時35分〜16時10分

「新たな薄毛要因物質プロスタグランジンD2に着目した植物エキスによる薄毛対策の2つのアプローチ」
丸善製薬梶@田邊瑞穂氏


薄毛は、加齢や外部環境、日常の心理的負担など、さまざまな要因によって引き起こされる。丸善製薬では、薄毛の要因物質として位置づけられているプロスタグランジン(PG)D2に着目し、過酸化スクワレンが表皮角化細胞からPGD2の産生を促進し、さらにPGD2が毛乳頭細胞から線維芽細胞増殖因子5の産生を誘導することを明らかにしてきた。これらの産生制御は、頭皮環境の改善や薄毛対策における新たなアプローチとなり得ると考えられる。本講演では、甘草葉エキスの作用を例に、育毛につながる評価についてご紹介する。

 

 

 

5 16時15分〜16時55分

「毛髪内部を経由した育毛成分の新規浸透方法の検討」

タカラベルモント梶@荒井佑香氏


頭髪用化粧品において、毛髪内部に目的成分を効果的に浸透させることは、製品の効果を最大限に引き出すために極めて重要である。これまでに当社では毛髪の深部領域であるメデュラにまで作用可能な高浸透技術を開発した。本研究では、この高浸透技術により目的成分が毛軸方向(毛根部)へも到達し得る可能性に着目し、新たな育毛アプローチへの応用を見据え、まずはその浸透挙動の確認を行った。

 

 

 


 
 
 
◆申込要項
お申し込み用紙(PDF)
*お申し込み用紙に必須事項をご記入のうえ、FAXにてお申し込み下さい。
 
■お申し込み・お問い合わせ先
 
技術教育出版社 セミナー担当 行き
技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106
Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549
URL https://www.kbsweb.org/Gijyutukyouiku
 

「申し込み締切日:6月11日(木)ただし定員になり次第締め切り」  
「お振込みは、当社より、請求書が届いた後にお手続きをお願いいたします。お振込み手数料はご負担下さい。」
□本セミナーで使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画、写真撮影、複写、転載、配布、上映、販売及びそれに類する行為は禁止事項です。

◆締切日以降のキャンセルにより弊社に損害が発生しております。
予稿集の印刷所への発注とお客様への発送の関係上、6月4日(木)以降のキャンセルはかたくお断りいたします。






 
 
 
 
 


 


―「光触媒研究と開発技術の最新動向と将来展望2026(第108回オンライン講演会)」 ―


 


日時:2026年7月2日(木)午後1時〜5時(入室12時45分)
申込は下記よりお願いいたします。 

受付締め切り:7月1日(水)17時  ◆予稿:会報光触媒79号
https://touche-np.org/photocat(会員でない方は登録・入室できません)
□法人会員(3名まで無料)

□学術(個人)会員ご本人様無料 

□学生無料:大学・研究室名明記厳守(予稿集無)



◆主催:光機能材料研究会事務局 〒278-8510千葉県野田市山崎2641  
東京理科大学スペースシステム創造研究センター光触媒国際ユニット内 http://pfma.jp/
 
◆開会にあたって:研究室の責任者の方(または責任者の方が責任をもってご推薦した方)にご講演いただき、研究の全体像・コンセプトとポイントがつかめるように企画いたしました。質疑応答でさらに理解が深まるように運営いたします。
 

◆「プログラム」(ご講演20分、質疑応答5分)座長 1〜3講:入江 寛 4〜6講:佐山和弘 7〜9講:立間 徹

時間 演題
13:00

開会にあたって 光機能材研究会会長 藤嶋 昭

 

第1講13:05〜13:30

「水分解光触媒による水素製造システム」

東京大学 堂免一成

 

光触媒と太陽エネルギーを用いてグリーン水素を製造するシステムの最近の進展について講演する。光触媒からは水素と酸素の混合気体が生成するため、安全に水素を高純度で分離するシステムの構築が必要である。また、今後のスケールアップの予定についても現状を報告する。

 

 

 

第2講13:30〜13:55

「光触媒的有機変換反応の開発」

京都大学 吉田寿雄

 

光触媒反応は励起電子・正孔により開始しラジカルを経由して生成物に至るという通常の触媒反応とは異なる機構で進行するために,有機変換反応に応用すると,新規な反応を進行させたり異なった反応選択性を示すので興味深い.本講演では,光触媒による有機酸の脱炭酸を利用した有機変換反応の開発について,重水素化化合物の合成や芳香環のアルキル化などを中心に,最近の検討結果を紹介する.

 

 

 

第3講13:55〜14:20

「ソーラーケミカルおよびそこから派生したネガティブエミッション技術」 

産業技術総合研究所 佐山和弘

 

産総研では、光触媒や光電極による人工光合成の反応として、水素製造だけでなく、様々な有用化学品を製造するソーラーケミカル技術の研究を行っている。本研究では、酸化的な有用化学品の選択生成に関しての検討状況を紹介する。また、そこから派生した、大気CO2を回収利用するネガティブエミッション技術に関しても紹介する。

 

 

 


第4講14:25〜14:50

「全固体型二段階励起水分解光触媒:反応条件変更による水素・酸素発生速度の向上」 

山梨大学 入江 寛

 

当研究室では赤色光や近赤外光照射で水を分解できる全固体型二段階励起光触媒をいくつか報告してきた。それら光触媒を用いて、水分解に対する反応スケールおよび雰囲気圧力が及ぼす影響を検討した。反応スケール拡大により、水素、酸素発生速度は大きく向上した。これは入射光の利用効率向上のためと考えられる。当日は水分解雰囲気圧力の依存性も含め報告する。

 

 

 

第5講14:50〜15:15

「半導体-助触媒界面設計に基づく高効率水分解用光触媒の開発」 

京都大学 阿部 竜

 

半導体光触媒の表面に担持される助触媒は,光励起キャリアを捕捉して表面での反応を促進する役割を担うことから,その材料選定のみならず半導体と助触媒間の界面設計によるキャリア移動効率の向上が重要となる.本講演では,我々が近年見出した層状酸ハロゲン化物光触媒において,バンド計算結果に基づいて半導体と助触媒間の界面設計を行い,水分解の活性を大幅に向上させた例を紹介する.

 

 

 

第6講15:15〜15:40

「近接場光を用いた光触媒反応」

東京大学 立間 徹

 

空間を伝わるふつうの光(伝搬光)とは異なり、近接場光は光の波長より狭い領域にとどまる。光触媒に用いる酸化チタンナノ粒子や酸化亜鉛ナノ粒子の内部や近傍にも、この近接場光は生じる。この近接場光によって光触媒を局所的に励起すれば、その部位で光触媒反応を駆動できる。作動波長や左右掌性をスイッチできるキラルナノ粒子などへの応用について紹介する。


 



第7講15:45〜16:10

「光触媒界面の水中マイクロ化学」

神戸大学 大西 洋

 

半導体光触媒を用いて水から水素分子をつくるためには2H2O → 2H2 + O2という化学反応を起こさなければならず,水分子2個から酸素原子を取り出して酸素分子に変換する4電子酸化反応が変換プロセスの隘路となっている.本研究では4電子酸化反応の最終生成物である酸素分子が水中へ放出される速度を時間分解計測する手法を構築した.これまで過渡吸収分光などで検出されてきた励起電荷キャリアや反応中間体と最終生成物の過渡応答とを比較対照して,酸素生成にいたる多段階反応サイクルの速度論を明らかにすることが研究の目標である.

 

 

 

第8講16:10〜16:35

「バイオマスを利用する光触媒物質変換」

近畿大学 古南 博

 

バイオマスの活用法として、熱分解や発酵を経て熱エネルギーを得る、あるいは、有用な化合物群へ変換する、などが検討されている。光触媒は、室温で作用する、正孔による酸化反応と励起電子による還元反応を同時に進行させる、水中で機能する、などの特長がある。ここでは、光触媒作用によりバイオマスを還元的あるいは酸化的に利用する事例を紹介する。

 

 

第9講16:35〜17:00

「電子トラップエネルギー分布解析にもとづく光触媒材料の表面構造評価」

特定非営利法人 touche NPO 大谷文章

 

逆二重励起光音響分光法(RDB-PAS)測定によってもとめられる電子トラップのエネルギー分布(ERDT)は,光触媒や触媒などの固体(粉末)材料の表面構造を反映することがあきらかになっている.たとえば,酸化チタンでは表面の結晶(アモルファス)組成を,酸化セリウムでは「平均的」な粒子形状や粒径を評価することが可能となる.これらの構造評価について解説する.



 
 
 
 
 

 

 
 
 




 
 
 
 
 
 
 


 


会員・非会員の皆様へ:会員限定のZoomでの光機能材料研究会第109回ウェブ講演会のご案内
―「ペロブスカイト太陽電池研究と開発技術の最新動向2026」 ―


 


会員でない方は登録・入室できません

2026年9月16日(水)13:00〜17:00(入室12:45)
◆予稿:会報光触媒80号
◆本案内は非会員の方にもお送りしています。非会員の方は、この機会にHP(pfma.jp)掲載の入会のご案内をご覧いただき、ご入会をご検討いただければ幸いです。(会員でない方は登録・入室できません
◆主催:光機能材料研究会事務局 〒278-8510千葉県野田市山崎2641  
東京理科大学スペースシステム創造研究センター光触媒国際ユニット内 http://pfma.jp/




◆コーデネート:宮坂力(桐蔭横浜大学) 

「プログラム」(ご講演20分、質疑応答5分)座長(1講〜3講)松尾 豊 4講〜6講)石井あゆみ(7講〜9講)竹岡裕子

時間 演題
13:00

開会にあたって 光機能材研究会会長 藤嶋 昭

 

1講

13:05〜13:30

「界面エンジニアリングで進むペロブスカイト太陽電池研究の現状」

桐蔭横浜大学 宮坂 力


ペロブスカイトと電荷輸送材料の界面の不接合が光電変換性能に影響を及ぼすなかで、界面構造を化学的に改良することによる性能と耐久性の改良が進んでいる。この研究開発の動向を紹介する。

 

 

 

2講13:30〜13:55

「キャリア輸送制御によるペロブスカイトデバイスの高効率化と高耐久化」

九州大学 松島敏則


ペロブスカイトデバイスの高効率化と高耐久化に向け、ホール輸送および電子輸送の制御が重要である。本講演では、有機分子設計や界面制御を通じたキャリア輸送特性の最適化と、それによる性能向上および劣化抑制の指針について紹介する。

 

 

 

3講13:55〜14:20

「Sn系ペロブスカイト太陽電池の安定化のための擬二次元構造の利用」

上智大学 竹岡裕子


非鉛ペロブスカイト太陽電池の開発は、安全性向上の観点から注目を集めている。一方、その代表例であるSn系ペロブスカイト太陽電池では、低安定性が問題であった。本講演では、擬二次元構造の利用による安定化について、最近の結果をお話する。

 

 

 


4講

14:25〜14:50

「錫系ペロブスカイト太陽電池、全ペロブスカイトタンデム太陽電池および発光素子の現状と将来展望」
電気通信大学 沈 青・早瀬修二


錫系ペロブスカイト(含む量子ドット)はポスト鉛系ペロブスカイトとして、鉛フリーペロブスカイト太陽電池、全ペロブスカイトタンデム太陽電池、および発光素子の分野での発展が期待されている。本講演では太陽電池の効率と耐久性の現状やキャリアダイナミックスから解析される効率向上指針、さらに全ペロブスカイトタンデム太陽電池、発光素子の現状を述べ将来を展望する。

 

 

 

5講

14:50〜15:15

「フラーレン誘導体および単層カーボンナノチューブ薄膜電極を用いたペロブスカイト太陽電池の高耐久化」

名古屋大学 松尾 豊


ナノカーボン材料であるフラーレン誘導体および単層カーボンナノチューブ(SWCNT)薄膜を用いた電子輸送層および透明裏面電極開発について紹介する。真空蒸着が可能なフラーレン誘導体はドライプロセスで成膜でき、パッシベーション効果も期待できる。SWCNT薄膜電極はドライプロセスおよびウェット塗布プロセスにより成膜され、活性分子捕捉機能によりデバイスの耐久性向上に寄与する。

 

 

 

6講

15:15〜15:40

「ペロブスカイト太陽電池の高効率化に向けた界面再結合の抑制戦略」

京都大学 大北英生

ペロブスカイト太陽電池の高効率化には、光活性層のみならず電荷輸送層界面での再結合抑制が不可欠である。本講演では、界面における電子準位整合の最適化や界面修飾分子による界面再結合の抑制による素子特性の高効率化指針について紹介する。


 



7講

15:45〜16:10

「ペロブスカイト太陽電池向け低抵抗・高透過率型結晶化ITOフィルムの開発」

蒲光 幾原志郎


15Ω/□の低抵抗と透過率87%を両立した、ペロブスカイト太陽電池用結晶化ITOフィルムを開発。ITO膜の脆性とレーザー加工時のエッジ隆起を結晶構造の制御により解消しました。本講演では、本フィルムの技術的特徴を解説します。

 

 

 

8講

16:10〜16:35

「カーボン電極多層多孔質電極を使用したペロブスカイト太陽電池」

兵庫県立大学 伊藤省吾

ペロブスカイト太陽電池の耐久性と材料価格の問題を克服するために,ガラス基板を使用し,有機半導体を無くし,カーボン電極を使用した「カーボン電極多層多孔質電極ペロブスカイト太陽電池(C-based Multiporous Layered Electrodes Perovskite Solar Cell: C-MPLE-PSC)」を作製している.C-MPLE-PSCの30cm角のモジュールの作製検討を紹介する.

 

 

 

9講

16:35〜17:00

「近赤外光を活用するアップコンバージョンペロブスカイト太陽電池の最新動向と将来展望」                                
早稲田大学 石井あゆみ


ペロブスカイト太陽電池は高効率化が進む一方、近赤外光の利用に課題が残されている。本講演では、色素増感型希土類アップコンバージョン材料により近赤外光を可視化し発電効率向上を図る手法に加え、界面設計やフィルム化技術を含む実用化に向けた課題と将来展望を紹介する。



 
 
 
◆申込要項
お申し込み用紙(PDF)
*お申し込み用紙に必須事項をご記入のうえ、FAXにてお申し込み下さい。
 
■お申し込み・お問い合わせ先
 

「参加申込書:会員限定の109回ウェブ講演会:ペロブスカイト太陽電池研究と開発技術2026」 申込締切9月9日(水)
資格 □法人会員3名まで無料 □個人会員(学術会員)ご本人様無料※会員でない方は登録・入室できません。
□本講演会講師・個人会員の研究室所属の学生無料:研究室ごとの登録厳守:予稿集無し

申込先:FAX:03-5913-8549(受付確認のご返信はいたしませんのでご了承ください。)
※お申込みいただいた皆様には開催日が近くなりましたらアクセス用URLを通知いたします。※会員でない方は登録・入室できません。

 
 
 
 
 
 
 



技術教育出版(有)
〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106
Tel/03(5913)8548
Fax/03(5913)8549
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