技術教育出版(有)
 

 

セミナー情報


 


―「サンスクリーン化粧品の最新技術-処方・化粧品皮膚科学からの研究開発アプローチ・機能剤開発-」 ―


 
 
開催日: 2025年10月29日(水)13時〜16時(入室12時45分)
ZOOMによるオンラインセミナーのご案内
参加費: 19,000円(税込)
録音: 録音・録画は禁止事項です。
予稿集: 開催日前にご郵送いたします。
申込先: 技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106 Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549


 
 

◆コーディネート 正木 仁氏(海IEL シニアフェロー)

 

◆開催のねらい
皮膚をとりまく環境が厳しさを増す中、サンスクリーン化粧品に対する期待はたかまり、様々な研究開発が進められています。本セミナーでは処方技術、化粧品皮膚科学からの研究開発へのアプローチ、UV防御剤の最新動向について第一線でご活躍する研究開発者の方々にご講演いただき、サンスクリーン化粧品技術の最新動向を明らかにいたします。

 

 

 
 
◆プログラム(講演概要)
時間 演題

1、 13時〜13時50分

「高SPF/PAを実現するサンスクリーン処方設計:材料選定とSPFブーストのポイント」 鞄本色材工業研究所 山口和弘氏


日常使用のサンスクリーンには、高い防御能と快適な使用感・安全性の両立が求められる。そのため、UV吸収剤やUV散乱剤は、少ない配合量で高い効果を発揮することが望まれる。本講演では、UV吸収剤・散乱剤の特性と使い分け、処方設計や塗布膜均一性がUV防御能に及ぼす影響について解説し、防御能を高める処方上のポイントを日焼け止め開発に長年携わってきた視点から紹介する。    



2、 14時〜15時05分

「太陽光線の慢性曝露による皮膚老化(光老化):細胞老化から シミ、シワへ」 海IEL 正木 仁氏


太陽光線はサンバーン、サンタンなどの一過性の傷害から、慢性的な曝露により光老化と呼ばれる皮膚老化の進行を加速することが知られている。また、近年、化粧品による抗老化作用として、細胞老化の抑制、改善、老化細胞の除去などが注目されている。そこで、本講演では、太陽光線、細胞老化、皮膚老化の特徴であるシミ、シワの発生との関連性について紹介する。



3、 15時15分〜16時

「世界のサンケアトレンドを踏まえたサステナブルなUV防御剤と有効成分」 BASFジャパン梶@ 正木功一氏


世界のサンケア市場や規制、安全性評価の更新により、UV防御剤のトレンドは大きく変わりつつある。本講演では、こうした変化から見えてくるサステナブルなUV防御剤について、そして高SPFで軽い感触、環境への配慮、トーンアップなどトレンドを踏まえた活用についてご紹介する。更に、DNAダメージからの保護など異なるアプローチで太陽光から肌を守る有効成分についてもご紹介する。

 


 
 
 
◆申込要項
お申し込み用紙(PDF)
*お申し込み用紙に必須事項をご記入のうえ、FAXにてお申し込み下さい。
 
■お申し込み・お問い合わせ先
 
技術教育出版社 セミナー担当 行き
技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106
Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549
URL https://www.kbsweb.org/Gijyutukyouiku
 

「申し込み締切日:10月22日(水)ただし定員になり次第締め切り」 

http://www.kbsweb.org/Gijyutukyouiku/


「お振込みは、当社より、請求書が届いた後にお手続きをお願いいたします。振込み手数料はご負担下さい。」


◆お申込みいただいた皆様には、開催日が近くなりましたら、アクセス用URLをメールにて通知いたします。なお、アクセス用URLはご登録者以外に絶対に知らせないでください 

□本セミナーで使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画、写真撮影、複写、転載、配布、上映、販売及びそれに類する行為は禁止事項です。

□予稿集の複写(コピー)・電子化は著作権の侵害となり、禁止事項です。

□本セミナーはお申込みいただいた方のみ受講いただけます。



 
 
 
 
 


 


―「化粧品・トイレタリー用品における洗浄技術・洗浄剤開発と機能創製」―


 
 
開催日: 2025年11月21日(金)13時〜16時30分(入室12時45分)
ZOOMによるオンラインセミナーのご案内
参加費: 19,000円(税込)
録音: 録音・録画は禁止事項です。
予稿集: 開催日前にご郵送いたします。
申込先: 技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106 Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549


 
 

◆開催のねらい
新型コロナ禍を経て(最近あらためて注意がよびかけられていますが)機能性洗浄技術に対するニーズが高まっている。
本セミナーでは皮膚、毛髪、衣類や堅表面の洗浄技術・洗浄剤開発と機能創製について、基礎・概論・ポイント技術、最新動向を明らかにいたします。

 

 

 
 
◆プログラム(講演概要)
時間 演題

1、 13時〜13時45分

「肌の潤いを守る新規スキンケア洗浄剤の研究開発」 

潟tァンケル 飯塚悠弥

使用後のつっぱり感の無さから、アシルアミノ酸塩を主たる界面活性剤に用いた洗顔料が開発されている。我々は洗顔料に汎用されるアシルグリシン塩に着目し、アシル基に不飽和脂肪酸を導入したところ、洗浄後に独特な肌感触が得られることを確認した。この独特な肌感触について、界面活性剤の疎水性表面への吸脱着挙動の解析や、吸着物の構造解析を実施し、考察した。
これに加え本発表では、製剤化の観点で、吸着物の皮膚への影響についても検証したため紹介する。




2、 13時50分〜14時35分

「シャンプー処方概論と洗髪後の香り持続性向上の処方技術」

味の素梶@原矢奈々

シャンプーは洗浄性能に加え、香りや使用感、ダメージケアなど総合的な品質が求められる。しかし、配合される香料や機能性成分の大部分は、洗髪過程で洗い流されてしまう。本講では、シャンプーの基礎知識を整理するとともに、現代のコンディショニングシャンプーに重要な「アニオン性界面活性剤とカチオン性ポリマーの複合体(コアセルベート)」に焦点を当て、香料や疎水性成分を効率的に毛髪に残留させ、香りの持続性を高める処方技術を紹介する。



3、 14時40分〜15時25分

「保湿成分が洗い流されない皮膚洗浄剤の開発」

ライオン梶@中川雅之


従来のボディソープには、保湿成分がすすぎの際に洗い流されてしまうという課題があった。そこで、アニオン性界面活性剤とカチオン性高分子を組み合わせ、希釈時に複合体を形成して皮膚に滞留させる技術を確立した。
この複合体は保水機能を有し、皮膚を部分的に覆うことで水分蒸散を抑制し、優れた保湿効果を示すことが明らかとなった。
本技術は感触向上成分の滞留にも活用可能であり、洗浄とスキンケアを両立させる有効なアプローチである。

 

 

4、 15時30分〜16時30分

「ぬれと乳化を操る洗浄技術の開発」

工学博士 田村隆光氏


洗浄は様々な表面に付着した複合汚れを、界面活性剤のぬれ、可溶化、乳化、分散などの機能を利用して除去する。化粧品分野では、皮膚や毛髪に付着した汚れが対象になることから、低刺激洗浄剤が開発されてきた。しかしながら、衣類や硬表面の洗浄まで視野を拡大すると、洗浄技術も大きく変化する。本講では、目に見えるマクロな汚れ除去に、界面活性剤のぬれと乳化の作用の違いにポイントを絞り、衣類や硬表面からの汚れの洗浄挙動の違いを紹介する。


 
 
 
◆申込要項
お申し込み用紙(PDF)
*お申し込み用紙に必須事項をご記入のうえ、FAXにてお申し込み下さい。
 
■お申し込み・お問い合わせ先
 
技術教育出版社 セミナー担当 行き
技術教育出版社:〒166‐0015東京都杉並区成田東3−3−14ニックハイムビル106
Tel/03(5913)8548:Fax/03(5913)8549
URL https://www.kbsweb.org/Gijyutukyouiku
 

「申し込み締切日:11月14日(金)ただし定員になり次第締め切り」 

http://www.kbsweb.org/Gijyutukyouiku/


「お振込みは、当社より、請求書が届いた後にお手続きをお願いいたします。振込み手数料はご負担下さい。」

 

◆お申込みいただいた皆様には、開催日が近くなりましたら、アクセス用URLをメールにて通知いたします。なお、アクセス用URLはご登録者以外に絶対に知らせないでください 

□本セミナーで使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画、写真撮影、複写、転載、配布、上映、販売及びそれに類する行為は禁止事項です。

□予稿集の複写(コピー)・電子化は著作権の侵害となり、禁止事項です。

□本セミナーはお申込みいただいた方のみ受講いただけます。




 
 
 
 
 




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